生產效率遠低於 EUV 系統。中國之精

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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀
：

• 中媒
  ：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

文章看完覺得有幫助，號稱性能已能媲美國際主流設備 ，機羲近至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破，度逼仍有待觀察
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外媒報導 ，「羲之」定位精度可達 0.6 奈米，

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